

產品描述
EHDJet系列電流體動力印刷設備,源自華中科技大學數(shù)字制造裝備與技術國家重點實驗室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術,榮獲國際日內瓦發(fā)明展金獎、湖北省技術發(fā)明一等獎、湖北省自然科學一等獎等,多功能電流體動力噴墨打印系統(tǒng),利用電流體動力學(EHD)原理,結合高精度運動平臺,實現(xiàn)微米/納米級的點噴印、線結構直寫,從而制備預設的圖案和結構;配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運動平臺、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機/無機墨水,集成按需點噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點/點陣、線/曲線、薄膜結構等復雜微納圖案。工藝分辨率:點噴直徑<1μm、紡絲線寬<1μm、霧化薄膜厚度~50nm,提供高性價比電噴印平臺,助力柔性電子器件、柔性觸摸屏、柔性體征貼片、太陽能薄膜電池、柔性傳感器,生物支架、組織工程、有機發(fā)光二極管、生物傳感器等領域科學研究與應用。

產品特性
?采用大理石基座,提升運動穩(wěn)定性
?高精度直線電機提升運動精準性
?不銹鋼打印基臺配備真空吸附/加熱
?提升打印精度、工藝穩(wěn)定性和可靠性
集成按需點噴、紡絲和霧化制膜三種打印模式

產品優(yōu)勢
· 基本圖案打印(電流體噴印各種二維結構)
· 制備微納單元(制造微米~亞微米級RGB/量子點圖案)
· 柔性封裝薄膜(制備柔性OLED封裝薄膜)
· 光敏樹脂材料(制備微米級光透鏡)
· 直寫波紋結構(直接制備PVDF二級波紋纖維,器件拉伸能力提升至320%)
· 電流體光刻技術(可電流體打印光刻膠溶液,制備微納米掩模圖案,兼容光刻圖案化工藝)
· 光刻膠圖案(掩膜制備微米網(wǎng)絡電極)
· 薄膜電容器件(電流體霧化石墨烯薄膜,制備薄膜電容器件)

產品參數(shù)
?設備功能:點噴、近場直寫、霧化
?打印墨滴:可達fL級
?定位精度:≤±5μm
?重復精度:≤±3μm
?打印頻率:1000Hz
?高壓供電:0~±5000V
?打印基臺面積:200X200mm2
?平臺運動速度:X/Y軸最大打印速度200mm/s
?視覺系統(tǒng):精密定位視覺+精密觀測視覺
?圖形格式:支持矢量圖、位圖;內置基本圖元
型號說明 | EHDJet-H:點/線/薄膜精密制造 |
設備特點 | 一體機、高精度 |
供墨系統(tǒng) | 氣壓供墨@1kPa(可選配流量泵) |
高壓電源 | ±5000V@直流/方波 |
打印頻率 | 1000Hz |
打印基臺 | 210×210mm2(可定制),真空吸附;基板加熱:常溫~100℃可調可控 |
打印速度 | 3DOF運動,X/Y軸打印速度 0-200mm/s,Z軸速度≤50mm/S |
定位/重復精度 | ±5μm / ±3μm |
視覺系統(tǒng) | 觀測相機+定位相機 |
圖形格式 | 支持矢量圖、位圖,內置基本圖元(EHDJet-P支持微曲面打印) |
工藝指標 | 點噴最小直徑 <1μm、打線最小線寬 <1μm、制膜最小厚度 ~50nm |